Презентация - Магнетронное распыление

Смотреть слайды в полном размере
Презентация Магнетронное распыление

Вашему вниманию предлагается презентация на тему «Магнетронное распыление», с которой можно предварительно ознакомиться, просмотреть текст и слайды к ней, а так же, в случае, если она вам подходит - скачать файл для редактирования или печати.

Презентация содержит 7 слайдов и доступна для скачивания в формате ppt. Размер скачиваемого файла: 3.67 MB

Просмотреть и скачать

Pic.1
Студент: Афонин А. Ю. Группа: МТ8-81
Студент: Афонин А. Ю. Группа: МТ8-81
Pic.2
Магнетронное распыление — технология нанесения тонких плёнок на подложку с помощью катодного распыле
Магнетронное распыление — технология нанесения тонких плёнок на подложку с помощью катодного распыления мишени в плазме магнетронного разряда — диодного разряда в скрещенных полях. Магнетронное распыление — технология нанесения тонких плёнок на подложку с помощью катодного распыления мишени в плазме магнетронного разряда — диодного разряда в скрещенных полях. Технологические устройства, предназначенные для реализации этой технологии, называются магнетронными распылительными системами или магнетронами.
Pic.3
Принцип действия установки основан на торможении электронов в скрещенных электрических и магнитных п
Принцип действия установки основан на торможении электронов в скрещенных электрических и магнитных полях. При подаче постоянного напряжения между мишенью и анодом возникает неоднородное электрическое поле и возбуждается тлеющий разряд. Электрон циркулирует в электромагнитной ловушке и сталкивается с атомами рабочего газа (при это он теряет энергию). Таким образом, большая часть энергии электрона, прежде чем он попадает на анод, используется на ионизацию и возбуждение, что приводит к возрастанию концентрации положительных ионов у поверхности мишени. Принцип действия установки основан на торможении электронов в скрещенных электрических и магнитных полях. При подаче постоянного напряжения между мишенью и анодом возникает неоднородное электрическое поле и возбуждается тлеющий разряд. Электрон циркулирует в электромагнитной ловушке и сталкивается с атомами рабочего газа (при это он теряет энергию). Таким образом, большая часть энергии электрона, прежде чем он попадает на анод, используется на ионизацию и возбуждение, что приводит к возрастанию концентрации положительных ионов у поверхности мишени.
Pic.4
При использовании разряда постоянного тока можно распылять различные металлы и их сплавы При использ
При использовании разряда постоянного тока можно распылять различные металлы и их сплавы При использовании разряда постоянного тока можно распылять различные металлы и их сплавы (ванадий, хром, никель, титан, медь, серебро, нержавеющая сталь, латунь, бронза и др. ), а также получать их химические соединения, добавляя в плазмообразующий газ (аргон) соответствующие реактивные газы (кислород, азот и др. ). Так, если в содержащую титановую мишень систему во время распыления вводить азот, то можно получить пленку нитрида титана, а введение, например, кислорода, позволяет получать на поверхности подложки пленку двуокиси титана. Варьируя содержание реактивного газа и скорость напыления, удается получать пленки разной толщины, химического и фазового состава.
Pic.5
Адгезия металлических слоев с подложкой у пленок, полученных магнетронным способом, существенно выше
Адгезия металлических слоев с подложкой у пленок, полученных магнетронным способом, существенно выше, чем у таких же пленок, полученных другими способами. Это связано с более высокой энергией конденсирующихся частиц при магнетронном распылении и дополнительной активацией поверхности действием плазмы. Адгезия металлических слоев с подложкой у пленок, полученных магнетронным способом, существенно выше, чем у таких же пленок, полученных другими способами. Это связано с более высокой энергией конденсирующихся частиц при магнетронном распылении и дополнительной активацией поверхности действием плазмы. В отличие от других способов нанесения тонкопленочных покрытий, способ магнетронного распыления позволяет достаточно тонко регулировать толщину металлического слоя, а значит, его сопротивление, что очень важно при создании структур с определенной проводимостью. Метод магнетронного распыления позволяет получать тонкие пленки высокого качества с рекордными физическими характеристиками (толщина, пористость, адгезия и пр. ), а также проводить послойный синтез новых структур (структурный дизайн), создавая пленку буквально на уровне атомных плоскостей.
Pic.6
Преимущества: Преимущества: Плотная микро- (нано-) кристаллическая структура металлических и керамич
Преимущества: Преимущества: Плотная микро- (нано-) кристаллическая структура металлических и керамических покрытий Возможность нанесения покрытий на термочувствительные материалы при низких температурах Широкий спектр покрытий различного назначения; Высокая скорость осаждения; Высокие свойства металлических и керамических покрытий Недостатки: Относительная сложность технической реализации метода при получении реактивных (керамических) покрытий; Относительно высокая стоимость оборудования
Pic.7
Магнетронное распыление, слайд 7


Скачать презентацию

Если вам понравился сайт и размещенные на нем материалы, пожалуйста, не забывайте поделиться этой страничкой в социальных сетях и с друзьями! Спасибо!